piauling(滄瀳飄零) 2013/10/7 14:30

聖荷西拼布與織品博物館「國際科技風格藝術雙年展」

活動網站:

http://sjquiltmuseum.org/files/ITAB3ProspectusForm.pdf

美國聖荷西拼布與織品博物館（San Jose Museum of Quilts and Textiles）
ITAB：國際科技風格藝術雙年展（International TECHstyle Art Biennial）

美國「聖荷西拼布與織品博物館」於2010年首次舉辦的「國際科技風格藝術雙年展」，今年要進入第三屆了。藝術家在創作過程中，將纖維媒材與新資訊和通訊科技融合在一起，以做為藝術表達的一個媒介與╱或其創作的內涵，ITAB便是一個開放給這類藝術家參與的活動。本競賽在其辦理地點──美國矽谷──發揮了影響力，藝術家將纖維與科技的交叉點發掘出來，而ITAB便將其作品引介給在San Jose’s Biennial Zero1 Festival匯集的全球社群。

參賽需求

1.參賽作品需為2012年1月1日之後製作完成的原創作品。
2.參賽者需年滿18歲。
3.集體創作之作品將被視為是單一的參賽作品。同時提交團體創作與個人創作作品者，請分別填寫報名表件。
4.參賽作品的任一邊邊長不得超過十英呎。
5.裝置作品請務必於報名表上載明所需要的整體空間大小。
6.參賽作品在概念與設計上必須為原創，且不得為課程或工作營之結業製作作品。
7.所有參賽作品在內容上需是纖維，或是採用纖維的技法創作。
8.曾參與過前屆ITAB展覽之作品，不予受理。

重要日期

線上報名日期：2013年12月1日至2014年3月14日
結果通知：2014年4月21日
入選作品送件：2014年6月16日至7月3日（親自送件者需預約時間）
展覽日期：2014年7月30日至11月9日
開幕典禮：2014年8月10日

活動網站： http://www.sjquiltmuseum.org/
簡章下載： http://sjquiltmuseum.org/files/ITAB3ProspectusForm.pdf
(上述內容僅供參考, 詳細活動內容請自行參閱活動網站或簡章!)

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